Toshiba investit 120 millions d'euros pour baisser le prix des SSD
Numéro 2 du marché de la mémoire Nand en 2009, derrière Samsung, Toshiba s'apprêterait à investir 160 millions de dollars (environ 120 millions d'euros) dans le développement de nouveaux procédés de fabrication de mémoire Flash.
L'objectif avoué est de parvenir à industrialiser les processus de gravure des puces mémoire en 25 nm et moins. Cette évolution est cruciale pour permettre d'augmenter la densité d'information par puce, et donc de baisser les coûts de production. Actuellement, Toshiba produit en volume des puces Nand de 32 nm et 43 nm.
Au second semestre 2010, Toshiba prévoit de produire des puces d'une finesse de gravure située entre 20 nm et 29 nm. Très optimiste, le constructeur prévoit ensuite de passer en dessous des 20 nm dès début 2012 !
Le calendrier est serré, mais il est crucial pour Toshiba de ne pas traîner : Micron et Intel, de leur côté, produisent déjà des puces 25 nm en volume.
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